合江缓蚀阻垢剂量大从优
我们提供的锅炉专用除垢剂非常好，最终带来的可靠性也有更好的表现，因此如何做出更好的选择是非常重要的，实现的可靠性也大幅度提高，因此如何做出更好的选择是非常重要的，这些都是值得我们更加关注的环节
HEDP是一种有机膦酸类阻垢缓蚀剂，能与铁、铜、锌等多种金属离子形成稳定的络合物，能溶解金属表面的氧化物。在250℃下仍能起到良好的缓蚀阻垢作用，在高pH下仍很稳定，不易水解，一般光热条件下不易分解。耐酸碱性、耐氯氧化性能较其它有机膦酸(盐)好。EDTMPS是含氮有机多元膦酸，属阴很 型缓蚀剂，与无机聚磷酸盐相比，缓蚀率高3～5倍。能与水混溶，，化学稳定性及耐温性好，在100℃下仍有良好的阻垢效果。EDTMPS在水溶液中能离解成8个正负离子，因而可以与多个金属离子螯合，形成多个单体结构大分子网状络合物，松散地分散于水中，使钙垢正常结晶被破坏。EDTMPS对硫酸钙、硫酸钡垢的阻垢效果好。
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加入阻垢剂后，试剂吸附在晶体上并掺杂在晶格的点阵中，对无机垢的结晶形成了干扰，使晶体发生畸变，或使大晶体内部的应力增大，从而使晶体易于破裂，阻碍了垢的生长。试剂能在金属传热面上形成一种与无机晶体颗粒共同沉淀的膜，当这种膜增加到一定厚度后，在传热面上破裂，并带一定大小的垢层离开传热面由于这种膜的不断形成和破裂，使垢层的生长受到抑制。在水中解离生成的阴离子在与碳酸钙微晶碰撞时，会发生物理化学吸附现象，使微晶粒的表面形成双电层，使之带负电因阻垢剂的链状结构可吸附多个相同电荷的微晶，静电斥力可阻止微晶相互碰撞，从而避免了大晶体的形成在吸附产物碰到其它分子时，将已吸附的晶体转移过去，出现晶粒均匀分散现象，从而阻碍了晶粒间和晶粒与金属表面的碰撞，减少了溶液中的晶核数，将碳酸钙稳定在溶液中。
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锅炉除垢剂使用方法化学清洗流程:水冲洗→酸洗除垢→水 冲 洗→钝化处理；断开与锅炉无关的其它系统，将清洗槽、清洗泵跟锅炉联接成一个清洗闭合回路；在模拟清洗状态下对清洗系统的泄漏情况进行检查，同时清除锅炉内松散的污物，当出口处冲洗水目测无大颗粒杂质存在时，水冲洗结束；水冲洗结束后，在清洗槽内循环添加锅炉清洗剂”，控制清洗主剂浓度在3—6%，温度在50—60 ℃的范围内，于系统内进行循环清洗去污，清洗时间2—3小时左右。定时用pH试纸测量酸液的pH值（1次/20分钟），使其维持在1以下，当pH值在半小时内趋于稳定值且清洗系统内没有气体放出时，结束酸洗过程；
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